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  • 回転銅のターゲット
    回転可能または円筒形のスパッタリングターゲットとも呼ばれる回転銅ターゲットは、マグネトロンスパッタリングなどの特定の種類のスパッタリングシステムで使用され、スパッタリングプロセスの均一性と効率を高めます。 Fabmannのロータリースパッタリングターゲットは、精密CNC加工、効果的なスリーブボンディング、従来の従来の鋳造ソリューションなど、さまざまな高度な製造技術によって生成されます。
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  • 平面銅のターゲット
    平面銅ターゲットは、物理蒸気堆積(PVD)プロセスで使用される平らでディスク型または長方形のスパッタリングターゲットであり、薄い銅フィルムを基質に堆積させることができ、高エネルギー粒子の砲撃の下で不可欠な原子を放出することができます。
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当社はビジネス調整を受けており、このメーカーは私たちのニーズに迅速に強力なサポートを提供し、多数の新製品を提供しました。
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